磁控溅射仪 型号:Gemini 500 库号：D410900
磁控溅射仪原理
磁控溅射喷金，是通过磁场束缚电子运动，使电子在电场与磁场协同作用下高频撞击工作气体（如氩气）产生等离子体，等离子体中的正离子被加速后轰击铂（Pt）、金（Au）等靶材表面，使靶材原子脱离并均匀沉积在样品表面形成纳米级导电薄膜的。相较于传统蒸镀喷金，该无需高温加热靶材，可避免样品热损伤，且薄膜附着力、均匀度；针对低真空场景化的磁路设计，能在2pa真空度下稳定产生等离子体，兼顾设备小型化与镀膜，是实验室样品处理的专属方案。
二、应用场景
科研检测领域
适配扫描电镜（SEM）样品预处理，为陶瓷、塑料、生物组织等绝缘样品喷镀纳米级铂膜，消除电子积累导致的成像模糊问题，可支持10万倍以上高倍镜下的成像。如口罩滤材检测、生物细胞观察、高分子材料形貌分析等场景，是科研数据获取的环节。
电子元器件领域
用于小型半导体芯片、柔性电子电极、传感器探头等部件的表面导电处理，沉积的铂膜兼具高导电性与化学稳定性，可降低接触电阻、提升部件抗腐蚀能力，适配微电子器件的小型化、高需求。
小型制造领域
针对小型不规则部件（如微型陶瓷传感器、金属触点）进行局部喷金处理，无需大型设备繁琐调试，可快速完成小批量样品的表面改性，大幅提升效率与产品一致性。
主机结构 1、尺寸423mm×370mm×390mm（W×D×H）
2、重量仅~50Kg（含真空泵）。
